东方晶源推出计算光刻云方案

有限公司发布首个基于云的EDA计算光刻平台mdashmdashAeroHPO全流程协同优化系统已成为国内EDA和集成成品率解决方案云部署先锋系统遵循，由东方晶源自主研发，全球首个工程应用，全反向光刻掩模优化，同时，依托公有云平台，可为客户提供28nm及以下工艺节点的工艺建模，基于ILT的掩膜优化，设计规则和掩膜规则检查，光源掩膜联合优化，严格物理光刻模拟，DPT版图拆分和光刻性能检查等全产品线功能和服务AeroHPO是对现有基于东方晶源私有计算集群的计算光刻解决方案的有力补充该系统在易用性和灵活的收费方式方面具有明显的优势可以为高校和科研院所提供便捷的EDA和计算光刻的教学和科研平台，也可以为中小型芯片设计制造企业提供更加经济灵活的解决方案

东方晶元的AeroHPO协同优化系统不仅解决了掩膜优化设计的问题，还具备上游EDA工具和下游缺陷分析及良率控制系统的可扩展性和兼容性，提供了从芯片设计到制造的DTCO集成平台截至目前，该系统已在北京超级云，华为云，腾讯云等合作伙伴上测试AeroHPO的推出将进一步完善国产EDA解决方案，加速国产替代，实现超越

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